色综合精品无码一区二区三区-日本免费视频费观看在线-97久久久久人妻精品专区-东京热无码一区二区av

關鍵詞:
當前位置:首頁 » 鎂神快訊 » 反應底液p值對氫氧化鎂顆粒分散性能的影響

反應底液p值對氫氧化鎂顆粒分散性能的影響

  氫氧化鎂的干燥與煅燒為防止氫氧化鎂在干燥過程中團聚,在其洗滌過濾時最后采用無水酒精分3次洗滌,然后再進行干燥。氫氧化鎂分解失水溫度在305~620e之間,在470~570e范圍內分解速度較快,在650e以上時完全分解為氧化鎂。在較低的溫度下分解制得的氧化鎂活性高,水化率也較大,而在較高的溫度下制得的氧化鎂具有良好的耐酸和耐水性能,溫度太高時制得的氧化鎂易形成較大顆粒的氧化鎂結晶,故氫氧化鎂的煅燒溫度以控制為950e左右時比較好。

氧化鎂

  為了保證氧化鎂具有低的水化率,煅燒后的氧化鎂應在真空密閉的條件下冷卻至室溫。以避免外界因素的影響,使氧化鎂粒子隨溫度逐步降低而自然收縮形成一種較致密且能自由鋪展的晶型粒子,從而降低其水化率。

此文關鍵字:氧化鎂

相關資訊